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材料的纯度主要取决于硅多晶的制备工艺，同时与后续工序的玷污也有密切关系。材料的均匀性主要涉及掺杂剂，---是氧、碳含量的分布及其行为，福建多晶硅粉，在直拉生长工艺中采用磁场(见磁控直拉法单晶生长)计算机控制或连续送料，使均匀性得到很大---；对区熔单晶采用中子嬗变掺杂技术，---了均匀性。在结构完整性方面，直拉硅单晶早已采用无位错拉晶工艺，工作主要放在氧施主、氧沉淀及其诱生缺陷与杂质的相互作用上。
半导体硅材料(semiconductor silicon)是主要的元素半导体材料，多晶硅粉报价，包括硅多晶、硅单晶、硅片、硅外延片、非晶硅薄膜等，可直接或间接用于制备半导体器件。硅为周期表中ⅳ族元素。在地壳中主要以二氧化硅和硅酸盐形式存在。丰度为27.7%，次于氧。硅的原子量为28.05，25℃下密度为2.329g/cm3，具有灰色金属光泽，较脆，硬度6.5mohs，稍低于石英。
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