山东半导体硅-中兴耐材-半导体硅价格

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高温下与氧反应生成无定形二氧化硅层，在器件工艺中常用半作掩蔽层和隔离层。硅不溶于酸，但溶于hno3。和hf的混合溶液中，常用这种溶液作腐蚀液。硅稍溶于加温的碱溶液中，还可采用等离子腐蚀技术来腐蚀硅。硅有结晶态和非晶。常温下硅单晶介电系数11.7，半导体硅生产厂家，对光具有高的折射率(n=3.42)，反射损失较大，涂以适当减反射膜可提高透过率。