高纯硅粉报价-中兴耐材-河北高纯硅粉

高温下与氧反应生成无定形二氧化硅层，在器件工艺中常用半作掩蔽层和隔离层。硅不溶于酸，但溶于hno3。和hf的混合溶液中，常用这种溶液作腐蚀液。硅稍溶于加温的碱溶液中，还可采用等离子腐蚀技术来腐蚀硅。硅有结晶态和非晶。常温下硅单晶介电系数11.7，对光具有高的折射率(n=3.42)，反射损失较大，高纯硅粉生产厂家，涂以适当减反射膜可提高透过率。

材料的纯度主要取决于硅多晶的制备工艺，同时与后续工序的玷污也有密切关系。材料的均匀性主要涉及掺杂剂，---是氧、碳含量的分布及其行为，在直拉生长工艺中采用磁场(见磁控直拉法单晶生长)计算机控制或连续送料，河北高纯硅粉，使均匀性得到很大---；对区熔单晶采用中子嬗变掺杂技术，---了均匀性。在结构完整性方面，直拉硅单晶早已采用无位错拉晶工艺，工作主要放在氧施主、氧沉淀及其诱生缺陷与杂质的相互作用上。