




高温下与氧反应生成无定形二氧化硅层,在器件工艺中常用半作掩蔽层和隔离层。硅不溶于酸,但溶于hno3。和hf的混合溶液中,常用这种溶液作腐蚀液。硅稍溶于加温的碱溶液中,还可采用等离子腐蚀技术来腐蚀硅。硅有结晶态和非晶。常温下硅单晶介电系数11.7,河南高纯硅粉,对光具有高的折射率(n=3.42),反射损失较大,高纯硅粉供应商,涂以适当减反射膜可提高透过率。
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